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惠州市杰恩復合材料有限公司

山西真空鍍膜設(shè)備代理

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【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之破邊、炸裂】: 一般的鍍膜會對基片加熱,由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi),由于鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數(shù)不一致,冷卻過程中會造成鏡片的破便或炸裂。 有些大鏡片,由于出罩時的溫度較高,與室溫的溫差較大,鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 改善對策: 1. 夾具(鏡圈、碟片)的設(shè)計,在尺寸配合上要合理,充分考慮制造誤差帶來的影響。 2. 注意鏡圈、碟片的變形,已經(jīng)變形的夾具不能使用。 3. 選用合適的夾具才來哦(非導磁材料、不生銹、耐高溫不變性),不銹鋼較為理想(熱變形系數(shù)?。?,就是加工難度大,價格貴。 4. 對于大鏡片應(yīng)降低出罩時的溫度,減少溫差,防止炸裂。 5. 如果時鏡圈,可以考慮在鏡圈上開槽,作為緩沖。真空鍍膜設(shè)備升級改造。山西真空鍍膜設(shè)備代理

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【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之劃痕(膜傷)】: 劃痕是指膜面內(nèi)外有道子,膜內(nèi)的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥,雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法,但難以。 產(chǎn)生原因: 膜內(nèi)劃痕: 1. 前工程外觀不良殘留。 2. 各操作過程中的作業(yè)過水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密,搬運過程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷): 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3. 各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善對策: 1. 強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過失清單,監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失 3. 改善鏡片擺放間隔 4. 改善鏡片搬運方法 5. 改善擺放器具、包裝材料 6. 改善超聲波清洗工藝參數(shù) 7. 加強前工程檢驗和鍍前檢查廣東真空鍍膜設(shè)備公司真空鍍膜設(shè)備常見故障及解決方法。

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【真空鍍膜改善薄膜應(yīng)力】: 1. 鍍后烘烤,Zui后一層膜鍍完后,烘烤不要馬上停止,延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時間適當延長,退火時效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應(yīng)力。 3. 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中,基片溫度不宜過高,高溫易產(chǎn)生熱應(yīng)力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學穩(wěn)定性有負面影響。 4. 鍍膜過程離子輔助,減少應(yīng)力。 5. 選擇合適的膜系匹配,第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當減小蒸發(fā)速率。 7. 對氧化物膜料全部充氧反應(yīng)鍍,根據(jù)不同膜料控制氧進氣量。

【真空鍍膜改善基片與膜的結(jié)合】: 1. 加強去油去污處理,如是超聲波清洗,重點考慮去油,若是手擦,考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦; 2. 加強鍍前烘烤; 3. 有條件時,機組安裝冷凝及(POLYCOLD); 4. 提高真空度; 5. 有條件時,機組安裝離子源; 6. 膜料的去潮; 7. 保持工作環(huán)境的干燥; 8. 對于多層膜,在膜系設(shè)計時,就要考慮第yi層膜與基片的匹配; 9. 采取研磨液復新去除鏡片表面的腐蝕層; 10. 有時候適當降低蒸發(fā)速率對膜強度的提高有幫助,對提高膜表面光滑度有積極意義。真空鍍膜設(shè)備哪個牌子的好?

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【真空鍍膜簡介】: 真空(vacuum)是一種沒有任何物質(zhì)的空間狀態(tài),因為真空之中沒有介質(zhì),所以像聲音這種需要介質(zhì)傳遞的能量在真空中是無法傳播的。1654年當時的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國雷根斯堡進行了一項實驗,從而證明了真空是存在的?,F(xiàn)在我們所說的真空并不是指空間內(nèi)沒有任何物質(zhì),而是指在一個既定的空間內(nèi)低于一個大氣壓的氣體狀態(tài),我們把這種稀薄的狀態(tài)稱為真空。現(xiàn)在的真空鍍膜技術(shù)是在真空中把金屬、合金進行蒸發(fā)、濺射使其沉積在目標物體上。 在當今電子行業(yè),很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝,雖然我國的真空鍍膜技術(shù)起步較晚,但發(fā)展的十分迅速。真空鍍膜已經(jīng)成為電子元器件制造的一項不可或缺的技術(shù)。目前的真空鍍膜技術(shù)主要分為:真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍。關(guān)于真空鍍膜機,你知道多少?山西真空鍍膜設(shè)備代理

真空鍍膜設(shè)備使用時,需要注意哪些問題?山西真空鍍膜設(shè)備代理

在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。山西真空鍍膜設(shè)備代理

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